Feature Profile Evolution in Plasma Processing Using On-wafer Monitoring System

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SpringerBriefs in Applied Sciences and Technology

ISBN: 4431547940
ISBN 13: 9784431547945
Autor: Samukawa, Seiji
Verlag: Springer Verlag GmbH
Umfang: viii, 40 S., 5 s/w Illustr., 30 farbige Illustr., 40 p. 35 illus., 30 illus. in color. With online files/update.
Erscheinungsdatum: 17.02.2014
Auflage: 1/2014
Produktform: Kartoniert
Einband: Kartoniert
Artikelnummer: 5967891 Kategorie:

Beschreibung

Herstellerkennzeichnung:


Springer Verlag GmbH
Tiergartenstr. 17
69121 Heidelberg
DE

E-Mail: juergen.hartmann@springer.com

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