Investigation on SiGe Selective Epitaxy for Source and Drain Engineering in 22 nm CMOS Technology Node and Beyond
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Springer Theses
| ISBN: | 9811500452 |
|---|---|
| ISBN 13: | 9789811500459 |
| Autor: | Wang, Guilei |
| Verlag: | Springer Verlag GmbH |
| Umfang: | xvi, 115 S. |
| Erscheinungsdatum: | 02.10.2019 |
| Auflage: | 1/2020 |
| Produktform: | Gebunden/Hardback |
| Einband: | GEB |
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