Hafnium Oxide And Hafnium Silicate For High-k Application

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Characterization of Hafnium Based Oxide Thin Films Deposited by CVD & Plasma-CVD For High-k Application in Transistors

ISBN: 3838333888
ISBN 13: 9783838333885
Autor: Bhandari, Harish
Verlag: LAP LAMBERT Academic Publishing
Umfang: 232 S.
Erscheinungsdatum: 03.04.2010
Auflage: 1/2010
Format: 1.4 x 22 x 15
Gewicht: 364 g
Produktform: Kartoniert
Einband: Kartoniert
Artikelnummer: 4737993 Kategorie:

Beschreibung

Herstellerkennzeichnung:


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22848 Norderstedt
DE

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