Beschreibung
En el presente trabajo, se hace la caracterización óptica y eléctrica con la técnica de Elipsometría Espectral, de películas delgadas de IZO impurificadas con nitrógeno. Estas películas pertenecen a la familia de óxidos conductores transparentes (TCO's), en donde una de sus cualidades es que son materiales con alta transparencia en las regiones de infrarrojo cercano, visible y ultravioleta; teniendo las características de baja resistividad eléctrica, buena movilidad y alta concentración de portadores de carga libres. Para depositar las películas de óxido de zinc e indio (IZO) dopado con nitrógeno, se utilizó la técnica de pulverización catódica reactiva asistida por radiofrecuencia. Esta técnica es altamente reproducible y tiene un alto control en la incorporación de las impurezas.
Autorenporträt
M. en C. Claudia Rafela Escobedo GalvánEstudios:Maestría en Ciencias Nucleares con terminación en Ingeniería Nuclear, Universidad Autónoma de Zacatecas, México.Licenciatura en Física, Universidad Autónoma de Zacatecas, México.Experiencia Profesional:Cecyt 18 Zacatecas, Instituto Politécnico Nacional, Zacatecas, México
